TANGERANGNEWS.com- Pandemi Covid-19 selama hampir tiga tahun merubah kebiasaan masyarakat yang mengharuskan untuk mengenakan masker guna menghindari penyebaran virus.

Namun, penggunaan masker tersebut ternyata memiliki dampat terhadap kesehatan kulit, terutama jerawat yang kerap timbul karena berbagai faktor.

Ahli Dermatologi dan Venereologi dari RSU Hermina Tangerang dr Putri Laksmi Karim, Sp.DV menjelaskan, acne atau jerawat dapat meningkat selama pandemi Covid-19, terutama karena adanya penumpukan jaringan mati di dalam kelenjar kulit, peningkatan produksi sebum atau minyak, serta aktivitas dari P. acne, bakteri penyebab acne.

Penggunaan masker juga dapat menyebabkan gesekan dan meningkatkan suhu serta kelembaban di daerah yang ditutupi masker, yang semuanya dapat menyebabkan acne muncul.

Baca Juga: Simak 5 Tips Atasi Jerawat Tanpa Skincare 

Untuk itu, dr Putri emberikan beberapa tips sederhana untuk merawat wajah dan mencegah acne. Pertama, kita perlu rutin mencuci wajah dua kali sehari, menjaga tangan tetap bersih, dan menghindari menyentuh wajah saat tangan dalam keadaan kotor.

Selain itu, pilihlah masker yang cocok untuk wajah kita dan usahakan untuk memberikan waktu istirahat pada wajah dengan membuka masker selama 15 menit setiap 2 jam atau paling lama 4 jam.

Baca Juga: Brand Skincare Asal Prancis Hadirkan Chemical Peeling Bisa Atasi Pigmentasi dan Jerawat Sekaligus 

Lalu, penting untuk menjaga sirkulasi wajah tetap baik dan menghindari masker yang kotor. Jika acne masih tetap timbul meskipun telah melakukan langkah-langkah tersebut, segera konsultasikan dengan dokter spesialis kulit dan kelamin untuk mendapatkan terapi yang tepat.

Meski begitu, dr Putri mengimbau bahwa penggunaan masker tetap penting untuk melindungi diri dari penyebaran Covid-19 meski saat ini status pandemi telah dicabut oleh pemerintah. 

Adapun untuk menjaga kulit tetap sehat, selain mengatasi masalah acne, dr Putri menyarankan untuk menggunakan pelembab dan sunscreen yang tepat agar kulit tidak terlalu berminyak atau kering.